一种化学机械抛光清洗液及使用方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113881510 A (43)申请公布日 2022.01.04 (21)申请号 202010634290.0 C11D 3/36 (2006.01) C11D 3/37 (2006.01) (22)申请日 2020.07.02 (71)申请人 万华化学集团电子材料有限公司 地址 264006 山东省烟台市经济技术开发 区北京中路50号 (72)发明人 卞鹏程　崔晓坤　 (51)Int.Cl. C11D 1/14 (2006.01) C11D 1/22 (2006.01) C11D 1/72 (2006.01) C11D 1/722 (2006.01) C11D 1/78 (2006.01) C11D 3/60 (2006.01) C11D 3/06 (2006.01) C11D 3/20 (2006.01) C11D 3/33 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 (54)发明名称 一种化学机械抛光清洗液及使用方法 (57)摘要 本发明公开了一种化学机械抛光清洗液及 其使用方法，该清洗液包含络合剂、表面活性剂、 润湿剂、pH调节剂、余量为水。本发明的化学机械 抛光清洗液是一种高度浓缩的清洗液，能够通过 调节稀释倍数同时满足对化学机械抛光后的晶 圆片和抛光垫的