光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113359391 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110391350.5 (22)申请日 2021.04.13 (30)优先权数据 63/041,070 2020.06.18 US 17/147,424 2021.01.12 US (71)申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 地址 中国台湾新竹市 (72)发明人 杨立柏　赖韦翰　张庆裕　 (74)专利代理机构 北京东方亿思知识产权代理 有限责任公司 11258 代理人 赵艳 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 1/56 (2012.01) 权利要求书1页 说明书23页 附图13页 (54)发明名称 光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案 的方法 (57)摘要 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和形成光致 抗蚀剂图案的方法。具体地，在光致抗蚀剂层中 形成图案的方法包括在基材上方形成光致抗蚀 剂层，将光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐 射，形成潜在图案。通过施加显影剂来使潜在图 案显影以形成图案。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀 剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含如下聚合 物。 A 1 9 3 9 5 3 3 1 1 N C CN 113359391 A 权　利　要　求　书 1/1页