用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备、系统和方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114182234 A (43)申请公布日 2022.03.15 (21)申请号 202110084312.5 C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/46 (2006.01) (22)申请日 2021.01.21 (30)优先权数据 102020124030.9 2020.09.15 DE (71)申请人 商先创国际股份有限公司 地址 德国布劳博伊伦市 (72)发明人 米尔科 ·特罗勒　 延斯－乌韦 ·福克斯　 拉尔夫 ·瑞兹　罗兰 ·莱希特　 (74)专利代理机构 北京金恒联合知识产权代理 事务所 11324 代理人 李强 (51)Int.Cl. C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图3页 (54)发明名称 用于等离子体辅助的化学气相沉积的设备、 系统和方法 (57)摘要 本发明涉及用于等离子体辅助的化学气相 沉积的设备(1)、系统(50)和方法(100)。在此，处 理室(2)被配置成用于接纳至少一个工件载体 (30)。根据本发明，该设备(1)被配置为用于借助 于至少一个能够被该处理室(2)接纳的工件载体