发明

一种自碱化去除水溶液中As(III)的电化学装置

2023-08-31 07:28:27 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310793587.5
  • 公开(公告)日:2025-05-23
  • 公开(公告)号:CN116639774A
  • 申请人:武汉工程大学
摘要:本发明提供了一种自碱化去除水溶液中As(III)的电化学装置,包括密闭的电解槽、设置在电解槽中的阴离子交换膜、设置在阴离子交换膜两侧的阴极集流板和阳极集流板,阴极集流板为双氧水生成电极,其与阴离子交换膜之间形成水处理室,阳极集流板与阴离子交换膜贴合,并在两者之间形成阳极悬浊液流动的流道,阳极悬浊液为对As(Ⅲ)具有氧化吸附作用的电解液,还包括污水循环装置和悬浊液循环装置,污水循环装置的管路两端分别与水处理室连通,悬浊液循环装置的两端分别与流道连通。本发明的电化学装置可以形成连续自碱化的电化学体系促进As(III)解离和氧化,并在阳极对As(III)进行氧化和吸附。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116639774 A (43)申请公布日 2023.08.25 (21)申请号 202310793587.5 (22)申请日 2023.06.29 (71)申请人 武汉工程大学 地址 430074 湖北省武汉市洪山区雄楚大 街693号 (72)发明人 刘立虎 姚槐应 袁鸣 曾可曼  (74)专利代理机构 湖北武汉永嘉专利代理有限 公司 42102 专利代理师 崔友明 (51)Int.Cl. C02F 1/469 (2023.01) C02F 1/461 (2023.01) C02F 101/10 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种自碱化去除水溶液中As(III)的电化学 装置 (57)摘要 本发明提供了一种自碱化去除水溶液中As (III)的电化学装置,包括密闭的电解槽、设置在 电解槽中的阴离子交换膜、设置在阴离子交换膜 两侧的阴极集流板和阳极集流板,阴极集流板为 双氧水生成电极,其与阴离子交换膜之间形成水 处理室,阳极集流板与阴离子交换膜贴合,并在 两者之间形成阳极悬浊液流动的流道,阳极悬浊 液为对As(Ⅲ)具有氧化吸附作用的电解液,还包 括污水循环装置和悬浊液循环装置,污水循环装 置的管路两端分别与水处理室连通,悬浊液循环 装置的两端分别与流道连通。本发明的电化学装 A 置可以形成连续自碱化的电化学体系促进As 4 (III)解离和氧化,

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