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发明

一种成膜装置的基座组件

2023-06-07 21:58:56 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202111030966.6
  • 公开（公告）日：2024-06-25
  • 公开（公告）号：CN115747770A
  • 申请人：无锡先为科技有限公司
摘要：本申请实施例公开了一种成膜装置的基座组件，包括：基座本体，其设于成膜装置的反应腔室中；至少一个载盘，其可旋转地设于基座本体上；至少一个内轴，其轴向一端可与所述载盘直接或间接对接，以带动所述载盘相对于所述基座本体转动；管状的外轴，其环绕所述内轴的至少一部分并与所述基座本体的底部相连接，所述外轴可带动所述基座本体转动；加热件，其环绕所述外轴的至少一部分并与所述基座本体相邻设置，所述外轴包括位于所述加热件的加热区域内的外轴第一段及延伸出所述加热件的加热区域的外轴第二段；其中，基座组件至少包括一个外冷却管道和一个内冷却管道，所述外冷却管道在所述外轴第二段中延伸，所述内冷却管道在所述内轴中延伸。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115747770 A (43)申请公布日 2023.03.07 (21)申请号 202111030966.6 H01J 37/32 (2006.01) (22)申请日 2021.09.03 (71)申请人 无锡先为科技有限公司 地址 214135 江苏省无锡市新吴区行创四 路7号 (72)发明人 山本晓　常青　孙正　王宏杰　 (74)专利代理机构 深圳紫藤知识产权代理有限 公司 44570 专利代理师 远明 (51)Int.Cl. C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C23C 14/50 (2006.01) C30B 23/02 (2006.01) C30B 25/12 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种成膜装置的基座组件 (57)摘要 本申请实施例公开了一种成膜装置的基座 组件，包括：基座本体，其设于成膜装置的反应腔 室中；至少一个载盘，其可旋转地设于基座本体 上；至少一个内轴，其轴向一端可与所述载盘直 接或间接对接，以带动所述载盘相对于所述基座 本体转动；管状的外轴，其环绕所述内轴的至少 一部分并与所述基座本体的底部相连接，所述外 轴可带动所述基座本体转动；加热件，其环绕所 述外轴的至少一部分并与所述基座本体相邻设 置，所述

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