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PCT发明

用于气体输送调节的腔室部件

2023-05-19 11:17:17 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080085197.7
  • 公开（公告）日：2024-10-08
  • 公开（公告）号：CN114901860A
  • 申请人：应用材料公司
摘要：示例性半导体处理腔室可包括界定中心孔的入口歧管。入口歧管还可界定第一通道和第二通道，且通道中的每一个可延伸穿过中心孔的径向外侧的入口歧管。腔室还可包括气体箱，气体箱的特征在于面对入口歧管的第一表面和与第一表面相对的第二表面。气体箱可界定与入口歧管的中心孔对准的中心孔。气体箱可在第一表面中界定第一环形通道，第一环形通道围绕气体箱的中心孔延伸并且与入口歧管的第一通道流体耦接。气体箱可界定第二环形通道，第二环形通道从第一环形通道径向向外延伸并且与入口歧管的第二通道流体耦接。第二环形通道可与第一环形通道流体隔离。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114901860 A (43)申请公布日 2022.08.12 (21)申请号 202080085197.7 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 (22)申请日 2020.11.04 专利代理师 史起源　侯颖媖 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/932,811 2019.11.08 US C23C 16/455 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H01L 21/67 (2006.01) 2022.06.08 H01J 37/32 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2020/058791 2020.11.04 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/091948 EN 2021.05.14 (71)申请人 应用材料公司 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 阮芳　D ·凯德拉

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