一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄膜的方法2025
- 申请专利号:CN202410037520.3
- 公开(公告)日:2025-04-04
- 公开(公告)号:CN117887126A
- 申请人:中国科学院电工研究所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117887126 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202410037520.3 (22)申请日 2024.01.10 (71)申请人 中国科学院电工研究所 地址 100190 北京市海淀区中关村北二条6 号 (72)发明人 黄邦斗 邵涛 余嘉川 董杰 (74)专利代理机构 北京科迪生专利代理有限责 任公司 11251 专利代理师 江亚平 (51)Int.Cl. C08J 7/12 (2006.01) C08L 23/12 (2006.01) C08L 67/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (54)发明名称 一种准分子深紫外光源辐照改性聚合物薄 膜的方法 (57)摘要 本发明公开了一种准分子深紫外光源辐照 改性聚合物薄膜的方法,将一卷聚合物薄膜固定 于自动薄膜缠绕机一端,薄膜依次通过蒸馏水和 无水乙醇清洗、烘干机烘干、准分子深紫外光源 辐照后卷绕至自动薄膜缠绕机另一端,即可完成 改性。改性聚合物薄膜常温及高温下的击穿强 度、放电能量密度、充放电效率得到显著提升。本 发明所述改性方法在空气中即可完成,方便快 捷,成本极低且无污染,是一种能够匹配聚合物 薄膜商业化生产的高效改性方法。 A 6 2 1 7 8 8 7 1 1 N C CN 117887126 A 权 利 要 求 书
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