发明

一种研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液

2023-06-15 07:06:52 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310109882.4
  • 公开(公告)日:2024-11-19
  • 公开(公告)号:CN116254060A
  • 申请人:大连奥首科技有限公司
摘要:本发明提供一种研磨助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液。所述研磨助剂包括重量配比如下的各组分:分散剂1‑10份;静电斥力剂0.1‑1份;两亲性溶剂30‑50份;亲油性溶剂5‑20份;亲水性溶剂20‑40份;润湿剂0.5‑1份;软化剂0.1‑1份。包含有本发明研磨助剂的研磨液具有高分散、高效率、易清洗的特点,长时间磨料也能保持悬浮与分散、润湿铺展能力强,移除速率快、加工的碳化硅表面粗糙度低,且无明显划伤。本发明研磨助剂分散作用优异,能有效将研磨过程产生的纳米颗粒分散开,避免吸附到磨料表面,进而显著提高磨料寿命。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116254060 A (43)申请公布日 2023.06.13 (21)申请号 202310109882.4 (22)申请日 2023.02.14 (71)申请人 大连奥首科技有限公司 地址 116023 辽宁省大连市高新技术产业 园区火炬路1号A座2层201-1号 (72)发明人 侯军 李传强 褚雨露 孙西  (74)专利代理机构 大连大工智讯专利代理事务 所(特殊普通合伙) 21244 专利代理师 崔雪 (51)Int.Cl. C09G 1/02 (2006.01) H01L 21/304 (2006.01) H01L 21/04 (2006.01) 权利要求书1页 说明书13页 附图3页 (54)发明名称 一种研磨助剂、制备方法、用途及包含其的 研磨液 (57)摘要 本发明提供一种研磨助剂、制备方法、用途 及包含其的研磨液。所述研磨助剂包括重量配比 如下的各组分:分散剂1‑10份;静电斥力剂0.1‑1 份;两亲性溶剂30‑50份;亲油性溶剂5‑20份;亲 水性溶剂20‑40份;润湿剂0.5‑1份;软化剂0.1‑1 份。包含有本发明研磨助剂的研磨液具有高分 散、高效率、易清洗的特点,长时间磨料也能保持 悬浮与分散、润湿铺展能力强,移除速率快、加工 的碳化硅表面粗糙度低,且无明显划伤。本发明 研磨助剂分散作用优异,能有效将研磨过程产生 的纳米颗粒分散开,避免吸附到磨料表面,进而 A 显著提高磨料寿命

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