发明

一种外延炉供气结构及供气系统

2023-06-27 09:50:05 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202310346330.5
  • 公开(公告)日:2025-07-29
  • 公开(公告)号:CN116288694A
  • 申请人:季华恒一(佛山)半导体科技有限公司
摘要:本发明涉及半导体生产技术领域,具体公开了一种外延炉供气结构及供气系统,其中,外延炉供气结构包括第一供气管道,与传送室连接,用于为传送室供应惰性气体;第二供气管道,与反应室进气端连接,用于为反应室供应初始载气;第一回气管道,其两端分别与传送室和第二供气管道连接;该外延炉供气结构设置第一回气管道连接传送室和第二供气管道,使得第二供气管道最终能为反应室输送由其原始提供的初始载气和第一回气管道提供的惰性气体构成的气浮混合载气,即利用了需要直接排放至废气处理设备中的传送室内的惰性气体来填补部分载气,有效降低整个设备的气体成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288694 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310346330.5 (22)申请日 2023.04.03 (71)申请人 季华实验室 地址 528200 广东省佛山市南海区桂城街 道环岛南路28号 (72)发明人 盛飞龙 郭嘉杰 孔倩茵 王鑫  徐俊 黄吉裕  (74)专利代理机构 佛山市海融科创知识产权代 理事务所(普通合伙) 44377 专利代理师 陈椅行 (51)Int.Cl. C30B 25/14 (2006.01) C30B 25/16 (2006.01) C30B 25/12 (2006.01) C30B 29/36 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图2页 (54)发明名称 一种外延炉供气结构及供气系统 (57)摘要 本发明涉及半导体生产技术领域,具体公开 了一种外延炉供气结构及供气系统,其中,外延 炉供气结构包括第一供气管道,与传送室连接, 用于为传送室供应惰性气体;第二供气管道,与 反应室进气端连接 ,用于为反应室供应初始载 气;第一回气管道,其两端分别与传送室和第二 供气管道连接;该外延炉供气结构设置第一回气 管道连接传送室和第二供气管道,使得第二供气 管道最终能为反应室输送由其原始提供的初始 载气和第一回气管道提供的惰性气体构成的气 浮混合载气,即利用了需要直接排放至

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