一种磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装置及控制方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114381705 A (43)申请公布日 2022.04.22 (21)申请号 202111611465.7 (22)申请日 2021.12.27 (71)申请人 泰安东大新材表面技术有限公司 地址 271025 山东省泰安市高新区龙泉路 279号 申请人 沈阳添和毅科技有限责任公司　 泰山科学技术研究院 (72)发明人 蔺增　毕诗博　刘兴龙　邓方昱　 孙彬　 (74)专利代理机构 济南圣达知识产权代理有限 公司 37221 代理人 吕薇 (51)Int.Cl. C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图9页 (54)发明名称 一种磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装 置及控制方法 (57)摘要 本发明涉及磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的 控制装置及控制方法，控制装置包括：靶、恒压电 源以及设置于靶后方的磁场模块，磁场模块包括 永磁铁和控制模块，永磁铁根据控制模块输入的 控制参数的不同而改变位置，即改变磁铁距离靶 的距离。本发明的阴极靶材刻蚀速率控制方法采 用恒压电源提供恒定的阴极放电电压，使放电过 程中轰击靶面的离子能量恒定。通过改变永磁铁 的位置调节磁场分布，保证轰击靶面的离子流密 度相对恒定，增强靶材刻蚀过程中刻蚀速度和镀 膜品质的稳定性。 A