发明

一种硅片烘干处理方法及系统

2023-06-30 07:00:18 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202210688603.X
  • 公开(公告)日:2023-05-30
  • 公开(公告)号:CN114993028A
  • 申请人:高景太阳能股份有限公司|||广东金湾高景太阳能科技有限公司
摘要:本申请公开了一种硅片烘干处理方法及系统,所述方法包括:步骤1:对硅片周围的空气进行加热处理;步骤2:在加热后的空气中导入臭氧气体,以通过臭氧气体和加热后的空气对硅片表面进行除湿处理;步骤3:对除湿处理后的空气进行除水干燥处理,得到低湿度的空气,并低湿度的控制导入硅片周围,循环执行步骤1‑3直至满足预设的第一烘干条件;通过上述的方法,在对硅片表面进行干燥处理的过程中,还将同时通入臭氧气体来对硅片表面的污染物进行化学反应处理,并且通过化学反应释放的热量对硅片表面的水分进行再次烘干,这样不仅提升了硅片的烘干效果以及干燥速度,还可以避免烘干过程中在硅片表面形成水痕,提高硅片的成品合格率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114993028 A (43)申请公布日 2022.09.02 (21)申请号 202210688603.X (22)申请日 2022.06.17 (71)申请人 广东高景太阳能科技有限公司 地址 519000 广东省珠海市横琴新区荣澳 道153号4幢二层B25单元 申请人 广东金湾高景太阳能科技有限公司 (72)发明人 周禹 薄千顷 郭翔 付明全  马伟萍  (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 专利代理师 牛丽霞 (51)Int.Cl. F26B 21/08 (2006.01) F26B 25/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图3页 (54)发明名称 一种硅片烘干处理方法及系统 (57)摘要 本申请公开了一种硅片烘干处理方法及系 统,所述方法包括:步骤1:对硅片周围的空气进 行加热处理;步骤2:在加热后的空气中导入臭氧 气体,以通过臭氧气体和加热后的空气对硅片表 面进行除湿处理;步骤3:对除湿处理后的空气进 行除水干燥处理,得到低湿度的空气,并低湿度 的控制导入硅片周围,循环执行步骤1‑3直至满 足预设的第一烘干条件;通过上述的方法,在对 硅片表面进行干燥处理的过程中,还将同时通入 臭氧气体来对硅片表面的污染物进行化学反应 处理,并且通过化学反应释放的热量对硅片表面 的水分进行再次烘干,这样不仅提升了硅片的烘 A 干效果以及

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