一种钙钛矿单晶薄膜的制备方法及其应用
- 申请专利号:CN202210657214.0
- 公开(公告)日:2024-03-12
- 公开(公告)号:CN115044979A
- 申请人:清华大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115044979 A (43)申请公布日 2022.09.13 (21)申请号 202210657214.0 (22)申请日 2022.06.10 (71)申请人 清华大学 地址 100084 北京市海淀区清华大学 (72)发明人 盛兴 孔德颖 尹斓 (74)专利代理机构 北京聿宏知识产权代理有限 公司 11372 专利代理师 吴大建 邓树山 (51)Int.Cl. C30B 29/46 (2006.01) C30B 19/00 (2006.01) C30B 25/02 (2006.01) C30B 29/12 (2006.01) H01L 51/00 (2006.01) H01L 51/42 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 一种钙钛矿单晶薄膜的制备方法及其应用 (57)摘要 本发明涉及一种钙钛矿单晶薄膜的制备方 法,所述方法包括如下步骤:S1、在半导体基底上 制备一层PbS单晶薄膜;S2、将上述生长有PbS薄 膜的所述半导体基底与甲胺卤化物MAX反应生成 钙钛矿MAPbX 单晶薄膜,其中,MA为甲胺阳离子, 3 X为ⅦA族阴离子。采用此方法可制备厘米级的钙 钛矿MAPbX 单晶薄膜,成本较低,反应温度较低, 3 适合于大批量生产。 A 9 7 9 4 4