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PCT发明

用于静电吸盘的原位清洗的方法与设备

2023-05-18 12:45:11 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080085269.8
  • 公开（公告）日：2024-10-25
  • 公开（公告）号：CN114846174A
  • 申请人：应用材料公司
摘要：本文提供一种用于清洗半导体腔室中的静电吸盘(ESC)的方法和设备，其允许原位清洗ESC。一种设备可包括：与沉积环电隔离的适配器或盖环；安装到基座并围绕基座的环形接地支架，所述环形接地支架在上周边表面上具有至少一个水平接地圈，所述至少一个水平接地圈被配置成提供与适配器或盖环的电接触，并且在等离子体产生期间向ESC提供RF返回路径；以及支架，所述支架在第一端上具有水平接地圈以与沉积环电接触并且在第二端上具有垂直接地圈以与电接地的升举圈电接触，所述支架安装到环形接地支架但与环形接地支架电隔离。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114846174 A (43)申请公布日 2022.08.02 (21)申请号 202080085269.8 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 (22)申请日 2020.10.20 专利代理师 侯颖媖　张鑫 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 16/708,908 2019.12.10 US C23C 14/56 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C23C 14/50 (2006.01) 2022.06.08 C23C 14/34 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 H01L 21/683 (2006.01) PCT/US2020/056447 2020.10.20 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/118689 EN 2021.06.17 (71)申请人 应用

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