发明

一种超低膨胀系数氟化石英玻璃及其制备方法2025

2024-04-16 07:28:19 发布于四川 16
  • 申请专利号:CN202410201842.7
  • 公开(公告)日:2025-09-23
  • 公开(公告)号:CN117865436A
  • 申请人:创昇光电科技(苏州)有限公司
摘要:本发明公开了一种超低膨胀系数氟化石英玻璃及其制备方法,所述制备方法通过先制备得到TiO2‑SiO2复合材料,再利用氟源对所得TiO2‑SiO2复合材料进行氟化处理,并压制成密坯体,最后将密坯体依次进行玻璃化烧结处理,制备得到的所述氟化石英玻璃具有极低的热膨胀系数,其膨胀系数小于5×10‑8/K,可作为镜基材运用在EUV光刻中。本发明所述的制备方法能够制备极高纯的超低膨胀系数氟化石英玻璃,其过渡金属杂质总量控制在1ppm内,原料中的过渡金属杂质含量及纯度均可通过纯化来提高。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117865436 A (43)申请公布日 2024.04.12 (21)申请号 202410201842.7 (22)申请日 2024.02.23 (71)申请人 创昇光电科技(苏州)有限公司 地址 215200 江苏省苏州市吴江区江陵街 道庞金路1801号 (72)发明人 任霄彤 曹江行 尹号 田光磊  吴俊斌  (74)专利代理机构 苏州衡创知识产权代理事务 所(普通合伙) 32329 专利代理师 陈娇 (51)Int.Cl. C03B 1/00 (2006.01) C03B 19/06 (2006.01) C03C 3/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种超低膨胀系数氟化石英玻璃及其制备 方法 (57)摘要 本发明公开了一种超低膨胀系数氟化石英 玻璃及其制备方法,所述制备方法通过先制备得 到TiO ‑SiO 复合材料,再利用氟源对所得TiO ‑ 2 2 2 SiO 复合材料进行氟化处理,并压制成密坯体, 2 最后将密坯体依次进行玻璃化烧结处理,制备得 到的所述氟化石英玻璃具有极低的热膨胀系数, 其膨胀系数小于5 ×10‑8/K,可作为镜基材运用 在EUV光刻中。本发明所述的制备方法能够制备 极高纯的超低膨胀系数氟化石英玻璃,其过渡金 属杂质总量控制在

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