基于光敏DNA的图形模版及图形制备方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117587523 A (43)申请公布日 2024.02.23 (21)申请号 202210969689.3 (22)申请日 2022.08.12 (71)申请人 张江国家实验室 地址 201210 上海市浦东新区海科路99号 (72)发明人 贾思思　 (74)专利代理机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 专利代理师 罗泳文 (51)Int.Cl. C40B 40/06 (2006.01) C40B 50/06 (2006.01) 权利要求书3页 说明书15页 附图8页 (54)发明名称 基于光敏DNA的图形模版及图形制备方法 (57)摘要 本发明提供一种基于光敏DNA的图形模版及 图形制备方法，图形制备方法包括步骤：对基底 表面进行钝化处理；于基底表面修饰锚定DNA链、 偶氮苯‑DNA链和引导组装DNA链，其中，偶氮苯‑ DNA链的第一端与锚定DNA链具有第一杂交片段， 偶氮苯‑DNA链的第二端与引导组装DNA链具有第 二杂交片段；对偶氮苯‑DNA链与引导组装DNA链 的第二杂交片段按设定图形进行光照以使其解 链；在保留有引导组装DNA链的区域组装修饰材 料，以获得设定图形。本发明可通过双光子扫描 模式形成所需图形，防止生物分子受到的热损 伤，为多功能、无掩模、无需洁净室和环保的光刻 A 方法提供了一种可行性方案。 3 2 5 7 8 5 7 1 1 N C CN 117587523 A