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PCT发明

聚酯膜、剥离膜、聚酯膜的制造方法

2023-05-24 13:11:02 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202180060001.3
  • 公开（公告）日：2024-12-13
  • 公开（公告）号：CN116137835A
  • 申请人：富士胶片株式会社
摘要：本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥离层表面上的转印痕迹的形成且传送性及剥离层的涂布性优异的剥离膜制造用的聚酯膜。并且，本发明的课题还在于提供一种剥离膜及聚酯膜的制造方法。本发明的聚酯膜为剥离膜制造用聚酯膜，其具备：实质上不含粒子的聚酯基材；及配置于聚酯基材的一个表面上的含有粒子的涂布层，且具有第1主表面及第2主表面，在第1主表面上形成剥离层以用于制造剥离膜，所述聚酯膜中，第2主表面为涂布层的与聚酯基材侧相反的一侧的表面，第2主表面的最大突起高度Sp为1nm以上且小于60nm，第2主表面的表面自由能为25～60mJ/m2。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116137835 A (43)申请公布日 2023.05.19 (21)申请号 202180060001.3 福冈佑记　 (22)申请日 2021.07.07 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (30)优先权数据 专利代理师 薛海蛟 2020-123800 2020.07.20 JP 2020-208252 2020.12.16 JP (51)Int.Cl . 2021-107520 2021.06.29 JP B29C 55/12 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.01.16 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2021/025608 2021.07.07 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/019113 JA 2022.01.27 (71)申请人 富士胶片株式会社 地址 日本国东京都 (72)发明人 宫宅一仁　丰岛悠树　江夏泰雄　 权利要求书2页 说明书42页 附图2页 (54)发明名称 聚酯膜、剥离膜、聚酯膜的制造方法 (57)摘要 本发明的课题在于提供一种能够抑制在剥

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