一种光刻机MLA透镜的对准调节系统2024

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117289553 A (43)申请公布日 2023.12.26 (21)申请号 202311098633.6 (22)申请日 2023.08.29 (71)申请人 安徽国芯光刻技术有限公司 地址 230000 安徽省合肥市包河经济开发 区中关村协同智汇园B4栋5层 (72)发明人 李文静　章广飞　王运钢　薛业保　 (74)专利代理机构 合肥律众知识产权代理有限 公司 34147 专利代理师 朱姣 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) G02B 26/08 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图6页 (54)发明名称 一种光刻机MLA透镜的对准调节系统 (57)摘要 本发明公开了一种光刻机MLA透镜的对准调 节系统，涉及光刻机像差调节技术领域，包括有 可接收光学系统的曝光光源的DMD反射单元以及 可接收DMD反射单元所射出的光束的MLA透镜单 元，还包括有可接收MLA透镜单元所折射出的光 束的曝光焦面，所述DMD反射单元所射出的光束 在MLA透镜单元上第一次成像，经过所述MLA透镜 单元再次射出后位于曝光焦面表面二次成像。本 发明可驱使棱镜单元调节与横向水平面的夹角 度数，以达到折射、矫正光束的目的，提高了由 DMD反射单元所射出的多个独立光束与MLA透镜 单元内部的多个微透镜相对应过程中的精准度， A 进一步提高了经过MLA透镜单元射出至曝光基板 3 上光束的质量，提升