发明

一种地下室后底板降压浇筑装置

2023-08-17 07:12:37 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310690744.X
  • 公开(公告)日:2024-11-08
  • 公开(公告)号:CN116591174A
  • 申请人:鸿厦建设有限公司
摘要:本发明公开了一种地下室后底板降压浇筑装置,属于筑工程技术领域。一种地下室后底板降压浇筑装置,包括安装板,还包括:安装架,通过升降部升降设置在安装板的上方;固定连接在所述安装架上的排料管,所述排料管的底部贯穿安装板;固定连接在所述安装架顶部的接料箱,所述接料箱与排料管通过导料管相连;设置在所述排料管内部的振捣部,所述振捣部的底部延伸至排料管外;本发明通过铺设网状管道和竖管,将地下水引入管道,然后通过抽水泵将水抽走,从而降低了地下水压力,避免了水压力对建筑物的影响。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116591174 A (43)申请公布日 2023.08.15 (21)申请号 202310690744.X (22)申请日 2023.06.12 (71)申请人 鸿厦建设有限公司 地址 325000 浙江省温州市龙湾区永中街 道永宁西路587号龙跃大厦901、902室 (72)发明人 宋君勇 何荣钦 黄斌斌 孙曼璐  董豪 姚良华  (74)专利代理机构 北京华际知识产权代理有限 公司 11676 专利代理师 泮淑梅 (51)Int.Cl. E02D 15/00 (2006.01) E02D 31/12 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图5页 (54)发明名称 一种地下室后底板降压浇筑工艺及装置 (57)摘要 本发明公开了一种地下室后底板降压浇筑 工艺及装置,属于筑工程技术领域。一种地下室 后底板降压浇筑工艺,包括将基坑的底壁与侧壁 压实 ;在基坑中安装基桩,基桩伸出地下室的底 面0.2‑0.3米;在基桩的顶部安装钢结构,并利用 浇筑装置浇筑出凹槽形混凝土基座,混凝土基座 的底壁与泥土层和混凝土基座的侧壁与混凝土 层之间均匀预留0.25‑0.5米的间隙;在混凝土基 座干燥后向混凝土基座与图层的缝隙之间灌注 补缝剂,并通过振捣装置对补缝剂进行振捣,提 高补缝剂的密实度;在混凝土基座的内侧铺设一 层沥青;本发明通过铺设网状管道和竖管,将地 A 下水引入管道,然后通过抽水泵将水抽

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