发明

卷绕式处理设备及处理方法

2023-07-28 07:17:41 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310453614.4
  • 公开(公告)日:2024-10-29
  • 公开(公告)号:CN116479412A
  • 申请人:江苏微导纳米科技股份有限公司
摘要:本发明提供了一种卷绕式处理设备,包括放卷装置、镀膜装置和收卷装置。所述镀膜装置包括镀膜导向部和下喷淋部,所述下喷淋部设置于所述镀膜导向部下方,配置为朝向所述柔性基材的第二表面提供工艺气体,使得所述下喷淋部向所述第二表面提供工艺气体的过程中即使产生颗粒,绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会聚集在所述第二表面,从而防止颗粒污染;所述下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方向设置,有利于确保镀膜均匀性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116479412 A (43)申请公布日 2023.07.25 (21)申请号 202310453614.4 (22)申请日 2023.04.24 (71)申请人 江苏微导纳米科技股份有限公司 地址 214028 江苏省无锡市新吴区新硕路 9-6号厂房 (72)发明人 李强强 李翔 陈少炜 左敏  糜珂 陈佳男  (74)专利代理机构 上海恒锐佳知识产权代理事 务所(普通合伙) 31286 专利代理师 侯林林 (51)Int.Cl. C23C 16/54 (2006.01) C23C 16/455 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 卷绕式处理设备及处理方法 (57)摘要 本发明提供了一种卷绕式处理设备,包括放 卷装置、镀膜装置和收卷装置。所述镀膜装置包 括镀膜导向部和下喷淋部,所述下喷淋部设置于 所述镀膜导向部下方,配置为朝向所述柔性基材 的第二表面提供工艺气体,使得所述下喷淋部向 所述第二表面提供工艺气体的过程中即使产生 颗粒,绝大部分颗粒也会因重力作用落下而不会 聚集在所述第二表面,从而防止颗粒污染;所述 下喷淋部配置为平行于所述柔性基材的延伸方 向设置,有利于确保镀膜均匀性。 A 2 1 4 9 7 4 6 1 1 N C CN 116479412 A

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