发明

用于提高低压涡轮叶栅气动效率的结构

2023-07-09 07:16:48 发布于四川 2
  • 申请专利号:CN202310437147.6
  • 公开(公告)日:2025-08-05
  • 公开(公告)号:CN116398250A
  • 申请人:上海交通大学
摘要:本发明提供了一种用于提高低压涡轮叶栅气动效率的结构,包括:端壁和叶片本体;端壁为与叶片本体相垂直的叶栅通道表面;端壁上设置有若干个第一凹陷结构,若干个第一凹陷结构位于相邻两个叶片本体之间,第一凹陷结构用于增强边界层流动与外界主流的动量交换,增强近壁面流动动能,并改变近壁面流动方向;叶片本体上设置有叶片吸力面和叶片压力面,叶片吸力面为叶片本体的外凸面,叶片压力面为叶片本体的内凹面;叶片吸力面设置有若干个第二凹陷结构,第二凹陷结构用于抑制叶片吸力面上流动分离及避免产生分离涡。本发明运用叶片吸力面上与端壁上的凹陷结构,能显著改善叶栅通道的流动,以减少低压涡轮叶栅气动损失,提高涡轮的气动效率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116398250 A (43)申请公布日 2023.07.07 (21)申请号 202310437147.6 (22)申请日 2023.04.21 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 (72)发明人 饶宇 谢胤 程宇立  (74)专利代理机构 上海汉声知识产权代理有限 公司 31236 专利代理师 胡晶 (51)Int.Cl. F01D 5/14 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图5页 (54)发明名称 用于提高低压涡轮叶栅气动效率的结构 (57)摘要 本发明提供了一种用于提高低压涡轮叶栅 气动效率的结构,包括:端壁和叶片本体;端壁为 与叶片本体相垂直的叶栅通道表面;端壁上设置 有若干个第一凹陷结构,若干个第一凹陷结构位 于相邻两个叶片本体之间,第一凹陷结构用于增 强边界层流动与外界主流的动量交换,增强近壁 面流动动能,并改变近壁面流动方向;叶片本体 上设置有叶片吸力面和叶片压力面,叶片吸力面 为叶片本体的外凸面,叶片压力面为叶片本体的 内凹面;叶片吸力面设置有若干个第二凹陷结 构,第二凹陷结构用于抑制叶片吸力面上流动分 离及避免产生分离涡。本发明运用叶片吸力面上 A 与端壁上的凹陷结构,能显著改善叶栅通道的流 0 动,以减少低压涡轮叶栅气动损失,提高涡轮的 5 2 8 气动效率。 9 3 6 1 1 N C CN 116398250 A

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