蒸镀源和蒸镀装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116005114 A (43)申请公布日 2023.04.25 (21)申请号 202310010176.4 (22)申请日 2023.01.04 (71)申请人 京东方科技集团股份有限公司 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 申请人 成都京东方光电科技有限公司 (72)发明人 刘浩　李彦松　白珊珊　关新兴　 曾琪皓　沈阔　刘华猛　刘佳宁　 (74)专利代理机构 北京律智知识产权代理有限 公司 11438 专利代理师 张旭庆 (51)Int.Cl. C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图5页 (54)发明名称 蒸镀源和蒸镀装置 (57)摘要 本公开涉及一种蒸镀源和蒸镀装置。其中， 蒸镀源包括 ：至少一个蒸镀源模块 ，包括 ：加热 器，具有侧板、顶板和底板，侧板位于顶板和底板 之间以与顶板和底板围成加热空间，至少部分侧 板为第一加热板；分隔板，设置于加热空间内，并 与加热板相对设置，分隔板与顶板和底板连接， 以将加热空间分为第一加热空间和第二加热空 间，第二加热空间相对于第一加热空间靠近第一 加热板；第一通气结构，贯穿分隔板，并且蒸镀材 料能够穿过第一通气结构；第一喷嘴 ，位于顶板 上，并且第一喷嘴在第一方向上的正投影位于第 一加热空间内；第二喷嘴，位于顶板上，并且第二 A 喷嘴在第一方向上的正投影位于第二加热空间 4 内。该蒸镀源的材料利用率高。 1