有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112859516 A (43)申请公布日 2021.05.28 (21)申请号 202011354547.3 (22)申请日 2020.11.27 (30)优先权数据 2019-215420 2019.11.28 JP (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 郡大佑　中原贵佳　石绵健汰　 山本靖之　 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事 务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇　李茂家 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) C08G 65/34 (2006.01) 权利要求书2页 说明书37页 附图2页 (54)发明名称 有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚 合物 (57)摘要 本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方 法、以及聚合物。本发明的课题为提供成膜性优 异并能展现高的蚀刻耐性、优异的扭曲耐性、填 埋特性的有机膜材料、使用了该有机膜材料的图 案形成方法、及适于如此的有机膜材料的聚合 物。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材 料，是有机膜形成时使用的材料，其含有具有下 列通式(1)表示的重复单元的聚合物、及有机溶 剂。 上述通式(1) A 6 中，AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环。W 1 5