一种提高K/NaMgF3颗粒纯度的后处理方法2025
- 申请专利号:CN202311595614.4
- 公开(公告)日:2025-08-12
- 公开(公告)号:CN117602655A
- 申请人:中国科学院金属研究所
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117602655 A (43)申请公布日 2024.02.27 (21)申请号 202311595614.4 (22)申请日 2023.11.28 (71)申请人 中国科学院金属研究所 地址 110015 辽宁省沈阳市沈河区文化路 72号 (72)发明人 伍立坪 赵林 王长罡 董俊华 (74)专利代理机构 沈阳晨创科技专利代理有限 责任公司 21001 专利代理师 张晨 (51)Int.Cl. C01F 5/28 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 (54)发明名称 一种提高K/NaMgF 颗粒纯度的后处理方法 3 (57)摘要 本发明提供一种提高K/NaMgF 颗粒纯度的 3 后处理方法,特别涉及化学领域,该方法具体步 骤如下:(1)将K/NaMgF3颗粒放入水溶液中,充分 搅拌溶解;(2)向步骤(1)处理后的溶液加入氟化 盐和缓冲剂,充分搅拌;(3)向步骤(2)处理后的 溶液加入镁盐和氯化盐,充分搅拌;(4)倒出步骤 (3)处理后的残留溶液,烘干步骤(4)残留固体。 本发明K/NaMgF 保持不变,又不引入新的杂质, 3 该方法能去除MgF 杂质的同时既不破坏K/ 2 NaMgF 的结构又不引入新的杂质。各步骤紧密关
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