光刻量测机及其操作方法
- 申请专利号:CN202111187259.8
- 公开(公告)日:2024-09-20
- 公开(公告)号:CN113917801A
- 申请人:鸿海精密工业股份有限公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113917801 A (43)申请公布日 2022.01.11 (21)申请号 202111187259.8 (22)申请日 2021.10.12 (71)申请人 鸿海精密工业股份有限公司 地址 中国台湾新北市土城区中山路66号 (72)发明人 傅国贵 (74)专利代理机构 北京派特恩知识产权代理有 限公司 11270 代理人 薛恒 徐川 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 光刻量测机及其操作方法 (57)摘要 一种光刻量测机的操作方法包括:在旋转基 座上放置第一、第二、第三以及第四光罩,其中第 一、第二、第三以及第四光罩的每一者具有第一、 第二、第三以及第四曝光单元;重叠第一、第二、 第三以及第四光罩,使第一光罩的第一曝光单 元、第二光罩的第二曝光单元、第三光罩的第三 曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排 列以形成曝光区;利用图像模拟单元根据曝光区 模拟第一坐标信息;利用扫描电子显微镜扫描曝 光区,以获得第二坐标信息;以及使用处理器比 对第一坐标信息与第二坐标信息。光刻量测机可 借由比对第一坐标信息与第二坐标信息以确认 A 第一、第二、第三以及第四光罩是否位于要求位 1 0 置。 8 7 1 9 3 1 1 N C CN 113917801 A 权 利 要 求 书