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光刻量测机及其操作方法

2023-04-22 09:09:12 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111187259.8
  • 公开(公告)日:2024-09-20
  • 公开(公告)号:CN113917801A
  • 申请人:鸿海精密工业股份有限公司
摘要:一种光刻量测机的操作方法包括:在旋转基座上放置第一、第二、第三以及第四光罩,其中第一、第二、第三以及第四光罩的每一者具有第一、第二、第三以及第四曝光单元;重叠第一、第二、第三以及第四光罩,使第一光罩的第一曝光单元、第二光罩的第二曝光单元、第三光罩的第三曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排列以形成曝光区;利用图像模拟单元根据曝光区模拟第一坐标信息;利用扫描电子显微镜扫描曝光区,以获得第二坐标信息;以及使用处理器比对第一坐标信息与第二坐标信息。光刻量测机可借由比对第一坐标信息与第二坐标信息以确认第一、第二、第三以及第四光罩是否位于要求位置。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113917801 A (43)申请公布日 2022.01.11 (21)申请号 202111187259.8 (22)申请日 2021.10.12 (71)申请人 鸿海精密工业股份有限公司 地址 中国台湾新北市土城区中山路66号 (72)发明人 傅国贵  (74)专利代理机构 北京派特恩知识产权代理有 限公司 11270 代理人 薛恒 徐川 (51)Int.Cl. G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图8页 (54)发明名称 光刻量测机及其操作方法 (57)摘要 一种光刻量测机的操作方法包括:在旋转基 座上放置第一、第二、第三以及第四光罩,其中第 一、第二、第三以及第四光罩的每一者具有第一、 第二、第三以及第四曝光单元;重叠第一、第二、 第三以及第四光罩,使第一光罩的第一曝光单 元、第二光罩的第二曝光单元、第三光罩的第三 曝光单元以及第四光罩的第四曝光单元相邻排 列以形成曝光区;利用图像模拟单元根据曝光区 模拟第一坐标信息;利用扫描电子显微镜扫描曝 光区,以获得第二坐标信息;以及使用处理器比 对第一坐标信息与第二坐标信息。光刻量测机可 借由比对第一坐标信息与第二坐标信息以确认 A 第一、第二、第三以及第四光罩是否位于要求位 1 0 置。 8 7 1 9 3 1 1 N C CN 113917801 A 权 利 要 求 书

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