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PCT发明

Fe-Pt-BN系溅射靶及其制造方法

2023-04-26 09:34:50 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080049423.6
  • 公开（公告）日：2024-06-07
  • 公开（公告）号：CN114072536A
  • 申请人：田中贵金属工业株式会社
摘要：通过与现有方法不同的方法来解决具有高相对密度的Fe‑Pt‑BN系溅射靶的颗粒产生的问题。一种Fe‑Pt‑BN系溅射靶，其具有90％以上的相对密度，维氏硬度为150以下，能够抑制磁控溅射时的颗粒产生数。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114072536 A (43)申请公布日 2022.02.18 (21)申请号 202080049423.6 (74)专利代理机构 中原信达知识产权代理有限 责任公司 11219 (22)申请日 2020.05.22 代理人 盛曼　金龙河 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2019-129820 2019.07.12 JP C23C 14/35 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C22C 32/00 (2006.01) 2022.01.05 C22C 30/00 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 B22F 3/14 (2006.01) PCT/JP2020/020307 2020.05.22 C22C 30/02 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/010019 JA 2021.01.21

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