一种抗反射涂层组合物及制备方法和应用2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117887328 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202311747230.X (22)申请日 2023.12.19 (71)申请人 福建泓光半导体材料有限公司 地址 363118 福建省漳州市高新区九湖镇 林前村林前773号 (72)发明人 林国清　毛鸿超　王静　 (74)专利代理机构 厦门荔信律和知识产权代理 有限公司 35282 专利代理师 赖秀华 (51)Int.Cl. C09D 163/00 (2006.01) C08G 59/02 (2006.01) G03F 7/11 (2006.01) 权利要求书2页 说明书14页 (54)发明名称 一种抗反射涂层组合物及制备方法和应用 (57)摘要 本发明属于光刻技术领域，公开了一种抗反 射涂层组合物及制备方法和应用。本发明提供的 抗反射涂层组合物中含有芳香硫代环氧树脂、产 酸剂、交联剂和溶剂以及任选的表面活性剂；所 述芳香硫代环氧树脂包括衍生自芳香硫代二环 氧化物的结构单元以及衍生自羟烷基异氰尿酸 酯的结构单元。本发明的关键在于采用具有特定 结构的芳香硫代二环氧化物与羟烷基异氰尿酸 酯经加成反应得到芳香硫代环氧树脂，当将该芳 香硫代环氧树脂应用于光刻领域作为抗反射涂 层组合物的成膜树脂时，能够很好地提高折射 率、吸光度以及膜厚方面的稳定性，折射率、吸光 A 度以及膜厚随着静置时间的延长不会发生大变 8 化，