一种等离子体射流腔室处理系统及方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116456566 A (43)申请公布日 2023.07.18 (21)申请号 202310438006.6 (22)申请日 2023.04.23 (71)申请人 西安电子科技大学 地址 710126 陕西省西安市长安区西沣路 兴隆段266号 (72)发明人 徐晗　魏子棚　邵明绪　谢楷　 (74)专利代理机构 西安知诚思迈知识产权代理 事务所(普通合伙) 61237 专利代理师 闵媛媛 (51)Int.Cl. H05H 1/00 (2006.01) H05H 1/26 (2006.01) 权利要求书2页 说明书8页 附图8页 (54)发明名称 一种等离子体射流腔室处理系统及方法 (57)摘要 本发明公开了一种等离子体射流腔室处理 系统及方法，处理系统包括内部中空的主箱体和 副箱体，主箱体位于副箱体的上方，主箱体和副 箱体之间安装有能够水平移动的承载板，使得主 箱体和副箱体上下连通或者阻隔；主箱体内安装 有搅拌模块，搅拌模块包括纵向设置的主轴，主 轴底部设有主扇叶 ；主模块安装于主轴的内部， 产生等离子体射流由上至下喷射；承载板顶面呈 环形均匀设有多个副模块，产生的等离子体射流 由下至上垂直于主扇叶的叶面。本发明提高了等 离子体的射流强度，增大了等离子体与废弃物的 接触面积，提高了消杀效果。 A 6 6 5 6 5 4 6 1 1 N C CN 116456566 A