一种高密高弹纬编双面提花面料2023

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219951368 U (45)授权公告日 2023.11.03 (21)申请号 202320637931.7 (22)申请日 2023.03.28 (73)专利权人 浙江德俊新材料有限公司 地址 314400 浙江省嘉兴市海宁市经济开 发区石泾路55号 (72)发明人 李强　王桂军　 (74)专利代理机构 浙江永航联科专利代理有限 公司 33304 专利代理师 张进 (51)Int.Cl. D04B 1/12 (2006.01) D04B 1/16 (2006.01) D04B 1/18 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (54)实用新型名称 一种高密高弹纬编双面提花面料 (57)摘要 本实用新型提供一种高密高弹纬编双面提 花面料。一种高密高弹纬编双面提花面料，包括 基布层，所述基布层包括若干个36路纱线组成的 4针线圈横列的最小循环结构单元，其中第1、2、 4、5、7、8、10、11、13、14、15、17、19、20、22、23、25、 26、28、29、31、32、33、35路纱线为全消光锦纶弹 力丝纱线和氨纶纱线，第16、18、34、36路纱线为 半光锦纶长丝纱线，第3、6、9、12、21、24、27、30路 纱线为氨纶纱线。本实用新型的一种高密高弹纬 编双面提花面料，表面纹路细腻，且具有优良的 弹性、回复性和吸湿性。 U 8 6 3 1 5 9 9 1