一种用于衬底外延的反应器

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114686974 A (43)申请公布日 2022.07.01 (21)申请号 202210358569.X C30B 29/06 (2006.01) C30B 29/40 (2006.01) (22)申请日 2022.03.30 (71)申请人 上海埃延半导体有限公司 地址 200131 上海市浦东新区自由贸易试 验区临港新片区新杨公路1588号4幢 (72)发明人 丁欣　 (74)专利代理机构 上海智晟知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31313 专利代理师 张东梅 (51)Int.Cl. C30B 25/08 (2006.01) C30B 25/10 (2006.01) C30B 25/14 (2006.01) C30B 28/14 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图7页 (54)发明名称 一种用于衬底外延的反应器 (57)摘要 本发明总的来说涉及半导体制造技术领域， 提出一种用于衬底外延的反应器，包括：反应腔 室；加热器，其被配置为对所述反应腔室进行加 热；风冷流道，其位于所述加热器以及所述反应 腔室之间；以及换热器，其布置于所述风冷流道 上，其中所述换热器被配置为生成冷却气体并且