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PCT发明

氧化硅涂覆的聚合物膜以及用于生产其的低压PECVD方法

2023-05-17 11:51:13 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080088728.8
  • 公开（公告）日：2024-07-02
  • 公开（公告）号：CN114829670A
  • 申请人：旭硝子欧洲玻璃公司
摘要：本发明涉及无应力透明氧化硅涂覆的聚合物基材。本发明进一步涉及一种用于使用包括至少一个空心阴极等离子体源的PECVD装置在聚合物基材上沉积基于无应力透明氧化硅的层的方法。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114829670 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202080088728.8 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所 有限公司 11038 (22)申请日 2020.12.18 专利代理师 谭冀 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 19217863.0 2019.12.19 EP C23C 16/40 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C23C 16/50 (2006.01) 2022.06.20 C23C 16/503 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C23C 16/515 (2006.01) PCT/EP2020/087042 2020.12.18 C23C 16/54 (2006.01) (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/123183 EN 2021.06.24 (

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