实用新型

槽体盖板组件及湿法刻蚀设备

2023-06-16 07:11:42 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202320323051.2
  • 公开(公告)日:2023-06-13
  • 公开(公告)号:CN219180482U
  • 申请人:苏州晶洲装备科技有限公司
摘要:本实用新型属于半导体刻蚀技术领域,公开了一种槽体盖板组件及湿法刻蚀设备。其中槽体盖板组件用于封闭刻蚀槽的上端开口,包括盖体和吸湿结构,盖体内设置有空腔,吸湿结构置于所述空腔中,盖体的下表面还设置有多个通风孔,所有通风孔与空腔连通;湿法刻蚀设备包括上述槽体盖板组件。在刻蚀过程中,刻蚀槽内的酸性液体受热挥发,产生酸雾,酸雾通过通风孔导入槽体盖板组件的空腔中,被吸湿结构吸收,防止酸雾凝结之后滴落导致的刻蚀不均,提高蚀刻均匀性,保证了产品的良品率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219180482 U (45)授权公告日 2023.06.13 (21)申请号 202320323051.2 (22)申请日 2023.02.27 (73)专利权人 苏州晶洲装备科技有限公司 地址 215555 江苏省苏州市常熟市辛庄镇 新阳大道136号 (72)发明人 张帆 施利君 宋金林  (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 专利代理师 贾爱存 (51)Int.Cl. H01L 21/67 (2006.01) B01D 53/26 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)实用新型名称 槽体盖板组件及湿法刻蚀设备 (57)摘要 本实用新型属于半导体刻蚀技术领域,公开 了一种槽体盖板组件及湿法刻蚀设备。其中槽体 盖板组件用于封闭刻蚀槽的上端开口,包括盖体 和吸湿结构,盖体内设置有空腔,吸湿结构置于 所述空腔中 ,盖体的下表面还设置有多个通风 孔,所有通风孔与空腔连通 ;湿法刻蚀设备包括 上述槽体盖板组件。在刻蚀过程中 ,刻蚀槽内的 酸性液体受热挥发,产生酸雾,酸雾通过通风孔 导入槽体盖板组件的空腔中,被吸湿结构吸收 , 防止酸雾凝结之后滴落导致的刻蚀不均,提高蚀 刻均匀性,保证了产品的良品率。 U 2 8 4 0 8 1 9 1 2 N C CN 219180482 U 权 利 要 求 书

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