掩模

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114540891 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210149517.1 C25D 7/00 (2006.01) H01L 51/00 (2006.01) (22)申请日 2019.09.02 (30)优先权数据 10-2018-0173975 2018.12.31 KR (62)分案原申请数据 201910822628.2 2019.09.02 (71)申请人 乐金显示有限公司 地址 韩国首尔 (72)发明人 金贤俊　 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 专利代理师 孙东喜　刘久亮 (51)Int.Cl. C25D 5/02 (2006.01) C25D 5/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书16页 附图19页 (54)发明名称 掩模 (57)摘要 掩模。公开了一种掩模及其制造方法。制造 掩模的方法包括：在基板的图案区域和围绕图案 区域的辅助区域上形成导电层；将包括导电层的 基板放置在镀槽中；在导电层上形成镀层；以及 将基板和导电层与镀层分开。 A 1 9 8 0 4 5 4 1 1 N C CN 114540891 A 权　利　要　求　书