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发明

化合物三羟基氯三硼酸铯和三羟基氯三硼酸铯双折射晶体及制备方法和用途2024

2024-03-29 07:38:43 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202210473394.7
  • 公开（公告）日：2024-03-26
  • 公开（公告）号：CN114956110A
  • 申请人：中国科学院新疆理化技术研究所
摘要：本发明涉及一种化合物三羟基氯三硼酸铯和三羟基氯三硼酸铯双折射晶体及制备方法和应用，该化合物的分子式为CsB3O3(OH)3Cl，分子量为299.81，采用温和的溶剂蒸发法制成。该晶体化学式为CsB3O3(OH)3Cl，分子量为299.81，属于单斜晶系，空间群是P21/c，晶胞参数a=8.175(3)Å，b=7.927(2)Å，c=14.096(4)Å，β=120.219(17)，V=789.3(4)Å3，Z=4，采用室温溶液法或水热法生长晶体，该晶体紫外透过截止边为180 nm，双折射率约为0.109（532 nm）。本发明所述的三羟基氯三硼酸铯双折射晶体机械硬度适中，易于生长、切割、抛光加工和保存；具有较大的双折射率；在光学和通讯领域有重要应用，可用于制作偏振分束棱镜，相位延迟器件和电光调制器件等。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114956110 A (43)申请公布日 2022.08.30 (21)申请号 202210473394.7 C30B 7/14 (2006.01) G02B 6/27 (2006.01) (22)申请日 2022.04.29 G02B 27/28 (2006.01) (71)申请人 中国科学院新疆理化技术研究所 地址 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐 市北京南路40号附1号 (72)发明人 潘世烈　焦佳豪　张敏　 (74)专利代理机构 乌鲁木齐中科新兴专利事务 所(普通合伙) 65106 专利代理师 张莉 (51)Int.Cl. C01B 35/18 (2006.01) C30B 29/10 (2006.01) C30B 28/04 (2006.01) C30B 7/04 (2006.01) C30B 7/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 化合物三羟基氯三硼酸铯和三羟基氯三硼 酸铯双折射晶体及制备方法和用途 (57)摘要 本发明涉及一种化合物三羟基氯三硼酸铯 和三羟基氯三硼酸

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