衬底承载设备及其用途、真空工艺系统和方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117198849 A (43)申请公布日 2023.12.08 (21)申请号 202310600236.8 (22)申请日 2023.05.25 (30)优先权数据 102022114395.3 2022.06.08 DE 102022124811.9 2022.09.27 DE (71)申请人 冯 ·阿登纳资产股份有限公司 地址 德国德累斯顿 (72)发明人 F ·米尔德　 (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所 11313 专利代理师 王珺　李文颖 (51)Int.Cl. H01J 37/32 (2006.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 衬底承载设备及其用途、真空工艺系统和方 法 (57)摘要 衬底承载设备及其用途、真空工艺系统和方 法。根据各种实施方式，衬底承载设备 (3)包括： 支承区域，借助于该支承区域可以可移动地支承 衬底承载设备 (3)；多个彼此电流分离的电极 (4)；多个依次设置的衬底承载区域 (104)，衬底 承载区域(104)中的每一者具有：多个电极(4)中 的一个电极(4)；和至少一个衬底接纳设备，该衬 底接纳设备设计用于：接纳设置在衬底承载区域 (104)中的衬底，优选地与电极(4)物理接触。 A 9 4 8 8 9 1 7 1 1 N C CN 117198849 A 权　利　要　求　书