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PCT发明

金刚石成膜方法和金刚石成膜装置2024

2024-03-25 07:44:56 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202280047714.0
  • 公开（公告）日：2024-11-08
  • 公开（公告）号：CN117751208A
  • 申请人：株式会社迪思科|||国立大学法人长冈技术科学大学|||泽边厚仁|||木村丰
摘要：金刚石成膜方法包括：基底层形成工序，通过利用了包含铱的第一原料气体的CVD法形成基底层(22)；以及金刚石层形成工序，通过利用了包含烃气体的第二原料气体的CVD法在基底层(22)上形成单晶的金刚石层(23)。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117751208 A (43)申请公布日 2024.03.22 (21)申请号 202280047714.0 大岛龙司　 (22)申请日 2022.06.30 (74)专利代理机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 (30)优先权数据 专利代理师 王洋 2021-113975 2021.07.09 JP (51)Int.Cl . (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C23C 16/02 (2006.01) 2024.01.04 C30B 29/04 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C23C 16/27 (2006.01) PCT/JP2022/026180 2022.06.30 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2023/282166 JA 2023.01.12 (71)申请人 株式会社迪思科 地

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