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PCT发明

具有被屏蔽板装置遮盖的进气机构的CVD反应器

2023-06-15 07:14:40 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN201980080267.7
  • 公开（公告）日：2024-06-04
  • 公开（公告）号：CN113166940A
  • 申请人：艾克斯特朗欧洲公司
摘要：本发明涉及一种CVD反应器(1)，包括：能被加热装置(4)加热到处理温度的用于容纳待处理的基板(3)的基座(2)，用于将处理气体导入布置在遮盖进气机构(5)的出气面(9’)的透气的屏蔽板(10)与基座(2)之间的处理室(12)的进气机构(5)。按本发明建议，屏蔽板(10)的边缘区域(19)被支撑环(20)这样地支撑，使得支撑面位于基座(2)的侧壁(27)外部。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113166940 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980080267.7 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 (22)申请日 2019.12.02 代理人 任丽荣 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 102018130859.0 2018.12.04 DE C23C 16/455 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C23C 16/30 (2006.01) 2021.06.03 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/083227 2019.12.02 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/114933 DE 2020.06.11 (71)申请人 艾克斯特朗欧洲公司 地址 德国黑措根拉特 (72)发明人 J.奥道德　 权利要求书1页 说明书5页 附图6

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