一种低粗糙度耐刻蚀Y2O3涂层的制备方法2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118086820 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410143749.5 C23C 4/18 (2006.01) (22)申请日 2024.02.01 (71)申请人 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 地址 214000 江苏省无锡市锡山经济技术 开发区团结路31号 (72)发明人 薛弘宇　张牧　靳普云　朱文健　 范彦丽　李伟东　龚文凯　韩伟男　 白晓天　李泽龙　 (74)专利代理机构 哈尔滨市阳光惠远知识产权 代理有限公司 23211 专利代理师 张勇 (51)Int.Cl. C23C 4/134 (2016.01) C23C 4/11 (2016.01) C23C 4/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图9页 (54)发明名称 一种低粗糙度耐刻蚀Y O 涂层的制备方法 2 3 (57)摘要 本发明公开了一种低粗糙度耐刻蚀Y2O3涂 层的制备方法，涉及耐等离子刻蚀陶瓷涂层领 域。方法包括以下步骤：S1、对基体进行前处理； S2、对前处理后的基体进行热处理；S3、将预处理 后的喷涂粉末用APS喷涂到S2处理后的基体表 面；S4、将预处理后的喷涂浆料用SPS喷涂到S3所 得涂层表面；其中，S4中预处理后的喷涂浆料，