双面覆接金属的陶瓷基板及其制备方法
- 申请专利号:CN202210052397.3
- 公开(公告)日:2024-10-11
- 公开(公告)号:CN116496098A
- 申请人:上海富乐华半导体科技有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116496098 A (43)申请公布日 2023.07.28 (21)申请号 202210052397.3 H01L 23/373 (2006.01) (22)申请日 2022.01.18 (71)申请人 上海富乐华半导体科技有限公司 地址 200444 上海市宝山区山连路181号3 幢 (72)发明人 周轶靓 贺贤汉 吴承侃 陈天华 葛荘 (74)专利代理机构 上海申浩律师事务所 31280 专利代理师 赵建敏 (51)Int.Cl. C04B 37/02 (2006.01) C23G 1/02 (2006.01) C23G 1/10 (2006.01) C23G 1/12 (2006.01) H01L 21/48 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图2页 (54)发明名称 双面覆接金属的陶瓷基板及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种双面覆接金属的陶瓷基板 及其制备方法,该陶瓷基板包括陶瓷片以及分别 设置在该陶瓷片正面及背面的正面金属层和背 面金属层。正面金属层蚀刻有蚀刻槽和正面图形 区;背面金属层蚀刻有半蚀刻槽以及背面图形 区,半蚀刻槽形状为蜂窝状或网格状,所述半蚀 刻槽面积占整个金属面的比例为5%‑40%,深度 为金属面的40%‑70%,蚀刻槽的宽度为0 .4mm‑ 5mm。制备方法包括陶瓷片覆接金属