发明

一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构

2023-06-11 13:31:58 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202110255747.1
  • 公开(公告)日:2025-04-29
  • 公开(公告)号:CN112984857A
  • 申请人:上海交通大学
摘要:本发明提供了一种能够呈现结构色的辐射制冷多层膜结构。包括顶部辐射制冷器结构和底部成色器结构,成色器结构包括自下而上堆叠形成的MIM结构和二周期一维准光子晶体结构。所述的多层膜结构的总厚度为1.657μm~1.87μm,以石英玻璃或Si作为基底材料,所述的结构在太阳光波段具有较强的反射能力,在大部分太阳光波段的反射率达到0.9以上。本发明的多层膜结构可克服目前辐射制冷结构由于颜色单一的应用场合受限问题。且相对于可呈现结构色的辐射制冷超表面光子器件,该一维结构色辐射制冷多层膜具有制造成本较低,工艺简单的巨大优势。所述的呈现结构色的辐射制冷多层膜结构在室外物体及电子产品热管理等领域有广大的应用前景。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112984857 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202110255747.1 (22)申请日 2021.03.09 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 (72)发明人 赵长颖 金圣皓 王博翔  (74)专利代理机构 上海汉声知识产权代理有限 公司 31236 代理人 胡晶 (51)Int.Cl. F25B 23/00 (2006.01) B32B 9/00 (2006.01) B32B 9/04 (2006.01) B32B 15/04 (2006.01) B32B 15/20 (2006.01) B32B 33/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种具有结构色的辐射制冷多层膜结构 (57)摘要 本发明提供了一种能够呈现结构色的辐射 制冷多层膜结构。包括顶部辐射制冷器结构和底 部成色器结构,成色器结构包括自下而上堆叠形 成的MIM结构和二周期一维准光子晶体结构。所 述的多层膜结构的总厚度为1.657μm~1.87μ m,以石英玻璃或Si作为基底材料,所述的结构在 太阳光波段具有较强的反射能力,在大部分太阳 光波段的反射率达到0.9以上。本发明的多层膜 结构可克服目前辐射制冷结构由于颜色单一的 应用场合受限问题。且相对于可呈现结构色的辐

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