发明

一种低残留的CF显影液及其制备方法

2023-05-15 11:26:41 发布于四川 3
  • 申请专利号:CN202210368174.8
  • 公开(公告)日:2024-10-01
  • 公开(公告)号:CN114721237A
  • 申请人:福建省佑达环保材料有限公司
摘要:本发明公开了一种低残留的CF显影液及其制备方法,是一种用于新型显示制造领域的高世代线CF制程用显影液,属于湿电子化学品领域,主要应用于8.5代线及以上大尺寸的TFT面板制造中。该显影液通过特定阴离子表面活性剂与有机溶剂和螯合剂协同作用,能有效提高显影精度,降低光刻胶膜渣的堵塞,易清洗不残留,特别适合水洗段设计较短的高世代线。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114721237 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202210368174.8 (22)申请日 2022.04.09 (71)申请人 福建省佑达环保材料有限公司 地址 362800 福建省泉州市泉港区天盈路8 号 (72)发明人 刘小勇 田博 侯琳熙 房龙翔  叶鑫煌  肖小江 刘文生  (74)专利代理机构 福州元创专利商标代理有限 公司 35100 专利代理师 俞舟舟 蔡学俊 (51)Int.Cl. G03F 7/32 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 (54)发明名称 一种低残留的CF显影液及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种低残留的CF显影液及其 制备方法,是一种用于新型显示制造领域的高世 代线CF制程用显影液,属于湿电子化学品领域, 主要应用于8.5代线及以上大尺寸的TFT面板制 造中。该显影液通过特定阴离子表面活性剂与有 机溶剂和螯合剂协同作用,能有效提高显影精 度,降低光刻胶膜渣的堵塞,易清洗不残留,特别 适合水洗段设计较短的高世代线。 A 7 3 2 1 2 7 4 1 1 N C CN 114721237 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1.一种低残留的CF显影液,其特征在于,以质量百分含量计,其组成如下:

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