发明

一种在硅衬底上生长的竖立钙钛矿片层及其制备方法和应用2024

2024-03-18 07:22:07 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311588992.X
  • 公开(公告)日:2024-03-12
  • 公开(公告)号:CN117684265A
  • 申请人:西北工业大学
摘要:本发明公开了一种在硅衬底上生长的竖立钙钛矿片层及其制备方法和应用,涉及半导体材料技术领域。该方法将SnBr2和CsBr粉末置于石英舟中,并放置于管式炉的加热区域;将衬底置于刚玉舟中,并放置于管式炉位于石英舟的一侧;对管式炉抽真空,并向管式炉中持续通入从石英舟朝刚玉舟方向的惰性气体,生长温度为570℃,加热时长为15min,即在硅衬底上生长的竖立钙钛矿片层。本发明通过化学气相沉积法在硅衬底上生长具有良好晶体质量的竖立的全无机CsSnBr3单晶钙钛矿,可用于高效率钙钛矿发光和光伏器件的开发。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117684265 A (43)申请公布日 2024.03.12 (21)申请号 202311588992.X (22)申请日 2023.11.24 (71)申请人 西北工业大学 地址 710072 陕西省西安市碑林区友谊西 路127号 (72)发明人 尚景智 李思雨 乔敬源 张欣雨  张学文  (74)专利代理机构 西安凯多思知识产权代理事 务所(普通合伙) 61290 专利代理师 赵革革 (51)Int.Cl. C30B 29/22 (2006.01) C30B 25/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 一种在硅衬底上生长的竖立钙钛矿片层及 其制备方法和应用 (57)摘要 本发明公开了一种在硅衬底上生长的竖立 钙钛矿片层及其制备方法和应用,涉及半导体材 料技术领域。该方法将SnBr 和CsBr粉末置于石 2 英舟中,并放置于管式炉的加热区域;将衬底置 于刚玉舟中,并放置于管式炉位于石英舟的一 侧;对管式炉抽真空,并向管式炉中持续通入从 石英舟朝刚玉舟方向的惰性气体,生长温度为 570℃,加热时长为15min,即在硅衬底上生长的 竖立钙钛矿片层。本发明通过化学气相沉积法在 硅衬底上生长具有良好晶体质量的竖立的全无 机CsSnBr 单晶钙钛矿,可用于高效率钙钛矿发 3 A 光和光

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