一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117144312 A (43)申请公布日 2023.12.01 (21)申请号 202311009782.0 (22)申请日 2023.08.11 (71)申请人 福建金石能源有限公司 地址 362000 福建省泉州市晋江市经济开 发区(五里园)泉源路17号 (72)发明人 曲永鹏　陈志伟　刘杰波　林海弈　 (51)Int.Cl. C23C 14/35 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图5页 (54)发明名称 一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源 系统 (57)摘要 本发明提供一种真空高速率沉积旋转圆柱 电弧镀膜源系统，包括旋转圆柱靶装置，引弧装 置，可活动遮罩装置，主体与电控装置和匀气装 置；旋转圆柱靶装置包括处于中间的磁轴和靶 材；磁轴包括固定轴、固定压紧块、调节螺母座、 固定螺杆、导磁板、磁棒、连接轴套、支撑块、转动 连接头一、转动连接头二和导磁遮罩；引弧装置 包括钨极、连接块、加长杆、主轴、防镀遮罩、压 板、筒座、绝缘垫、导向轴、弹簧压块、绝缘压块、 气缸、气缸固定座和接线端头；可活动遮罩装置 包括固定遮罩、右侧活动遮罩、左侧活动遮罩、无 A 油衬套；该设计优化镀膜源系统结构，安装拆卸 2 快捷，引弧更加高效，合理磁场及导磁设计，放电 1 3 4 稳定，提高靶材利用率，从而提升成膜质量。 4 1 7 1 1 N C CN 117144312 A 权　利　要　求　书