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PCT发明

区域选择性原子层沉积方法及工具

2023-05-15 11:17:23 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080078814.0
  • 公开（公告）日：2024-11-19
  • 公开（公告）号：CN114729445A
  • 申请人：荷兰应用自然科学研究组织TNO
摘要：本发明涉及一种原子层沉积装置，用于将目标材料层区域选择性地沉积在衬底表面的沉积区域上，该衬底表面还包括非沉积区域。在使用中，衬底沿着多个沉积空间和隔离剂空间传送，所述多个沉积空间和隔离剂空间包括至少两个气体隔离剂空间，所述气体隔离剂空间至少提供有隔离剂气体入口和隔离剂排放部，用于在使用中使衬底暴露于隔离剂气流。其中所述气体隔离剂空间中的至少一个形成组合的隔离剂‑抑制剂气流，所述组合的隔离剂‑抑制剂气流包括隔离剂气体和抑制剂成分。所述抑制剂成分选择性地粘附到所述非沉积区域以形成抑制层，减少前体成分的吸附。在优选的实施方式中，该装置包括回蚀刻空间，以增加沉积工艺的选择性。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114729445 A (43)申请公布日 2022.07.08 (21)申请号 202080078814.0 保卢斯 ·威力布罗德斯 ·乔治 ·波 特　 (22)申请日 2020.11.12 (74)专利代理机构 北京派特恩知识产权代理有 (30)优先权数据 限公司 11270 19208861.5 2019.11.13 EP 专利代理师 李雪　姚开丽 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 (51)Int.Cl. 2022.05.12 C23C 16/04 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/NL2020/050713 2020.11.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/096359 EN 2021.05.20 (71)申请人 荷兰应用自然科学研究组织TNO 地址 荷兰海牙 (72)发明人 阿尔费雷多 ·马梅利　 艾哈迈徳 ·法兹　 弗雷

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