用于在光刻设备中原位去除粒子的设备和方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113227904 A (43)申请公布日 2021.08.06 (21)申请号 201980085779.2 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 (22)申请日 2019.12.12 代理人 张启程 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/785,369 2018.12.27 US G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.06.23 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/EP2019/084831 2019.12.12 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2020/136013 EN 2020.07.02 (71)申请人 ASML控股股份有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 J ·J ·隆巴尔多　 R ·P ·奥尔布赖特　D ·L ·哈勒　 V ·A ·佩雷斯-福尔肯　A ·贾奇　 权利要求书2页 说明书9页 附图5页 (54)发明名称 用于在光刻设备中原位去除粒子的设备和 方法