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PCT发明

Ag合金溅射靶

2023-04-26 09:54:02 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202080036027.X
  • 公开（公告）日：2022-02-25
  • 公开（公告）号：CN114096326A
  • 申请人：三菱综合材料株式会社
摘要：该Ag合金溅射靶由包含Ge和In的Ag合金构成，且利用舍勒方程式求出的微晶直径为以下。所述Ag合金优选为如下组成：在0.1质量％以上且1.5质量％以下的范围内包含In、在0.1质量％以上且7.5质量％以下的范围内包含Ge，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114096326 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202080036027.X (74)专利代理机构 北京德琦知识产权代理有限 公司 11018 (22)申请日 2020.10.22 代理人 辛雪花　周艳玲 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 2020-094256 2020.05.29 JP A99Z 99/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2021.11.15 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2020/039705 2020.10.22 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/240839 JA 2021.12.02 (71)申请人 三菱综合材料株式会社 地址 日本东京 (72)发明人 林雄二郎　小见山昌三　 权利要求书1页 说明书11页 附图5页 (54)发明名称 Ag合金溅射靶 (57)摘要 该Ag合金溅射靶由包含Ge和In的Ag合金构 成，且利用舍

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