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真空镀膜设备中避免粉尘微粒附着的遮挡装置及组装方法2024

2023-10-11 07:11:37 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310655276.2
  • 公开(公告)日:2024-10-29
  • 公开(公告)号:CN116837340A
  • 申请人:安徽越好电子装备有限公司
摘要:本申请涉及一种真空镀膜设备中避免粉尘微粒附着的遮挡装置及组装方法,包括:主遮挡组件,包括多块呈矩阵式排列的遮板,每块遮板的背面均带有沿横向延伸的滑轨,相邻遮板之间形成沿横向延伸的第一缝隙以及沿纵向延伸的第二缝隙;辅助遮挡组件,设置在所述主遮挡组件的背侧,包括多个与所述滑轨配合的滑块,用于遮蔽所述第二缝隙。本申请第一缝隙和第二缝隙均被遮挡,避免靶材原子微粒直接附着于腔体的内侧面。本申请形成遮罩的遮板呈矩阵式排列,降低了对遮板面积的要求,有助于遮板的存放运输和安装。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116837340 A (43)申请公布日 2023.10.03 (21)申请号 202310655276.2 (22)申请日 2023.06.02 (71)申请人 安徽越好电子装备有限公司 地址 239050 安徽省滁州市南谯区乌衣镇 双迎路790号3栋 (72)发明人 蔡明慧 娄国明 徐建柱 沈纬徵  (74)专利代理机构 杭州合信专利代理事务所 (普通合伙) 33337 专利代理师 沈自军 (51)Int.Cl. C23C 14/54 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图10页 (54)发明名称 真空镀膜设备中避免粉尘微粒附着的遮挡 装置及组装方法 (57)摘要 本申请涉及一种真空镀膜设备中避免粉尘 微粒附着的遮挡装置及组装方法,包括 :主遮挡 组件,包括多块呈矩阵式排列的遮板,每块遮板 的背面均带有沿横向延伸的滑轨,相邻遮板之间 形成沿横向延伸的第一缝隙以及沿纵向延伸的 第二缝隙 ;辅助遮挡组件,设置在所述主遮挡组 件的背侧,包括多个与所述滑轨配合的滑块,用 于遮蔽所述第二缝隙。本申请第一缝隙和第二缝 隙均被遮挡,避免靶材原子微粒直接附着于腔体 的内侧面。本申请形成遮罩的遮板呈矩阵式排 列,降低了对遮板面积的要求,有助于遮板的存 A 放运输和安装。 0 4 3 7 3 8 6 1 1 N C CN 116837340 A 权 利 要 求 书

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