掩模框架、掩模板以及掩模结构

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114381687 A (43)申请公布日 2022.04.22 (21)申请号 202111512104.7 (22)申请日 2021.12.07 (71)申请人 合肥维信诺科技有限公司 地址 230000 安徽省合肥市新站区魏武路 与新蚌埠路交口西南角 (72)发明人 王建强　 (74)专利代理机构 北京华进京联知识产权代理 有限公司 11606 代理人 金铭 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/12 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 掩模框架、掩模板以及掩模结构 (57)摘要 本发明涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模 结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设 于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮 挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和 限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支 撑面和限位面之间，支撑面、限位面以及连接面 共同界定形成限位槽，限位槽用于限制掩模板移 动。上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的 压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下， 掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模 框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动 导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进 A 而提高了显