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PCT发明

用于金属电沉积的优化装置以及系统

2023-05-16 10:25:34 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202080084095.3
  • 公开（公告）日：2024-11-19
  • 公开（公告）号：CN114746582A
  • 申请人：P·D·亚内斯·卡斯塔内达
摘要：用于金属电沉积的优化装置，所述优化装置覆盖了从最低电流密度到最高电流密度的金属电沉积的整个范围，所述优化装置在其整个表面上具有多个开口，这些开口最大化了电解质流的自由通过，而不改变电沉积过程，并且使电极变直，使得安装在电解池中的电极中的电流均匀分布，这导致产生具有高质量均匀沉积物的阴极，避免了由于阳极与阴极之间发生短路而导致的电流损失，从而提高了系统的电流效率。所述装置包括具有由不同主体区段形成的坚固骨架结构的单个主体，至少一个主体区段包括倾斜侧壁。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114746582 A (43)申请公布日 2022.07.12 (21)申请号 202080084095.3 (74)专利代理机构 北京市铸成律师事务所 11313 (22)申请日 2020.10.07 专利代理师 王珺　段丹辉 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/913,448 2019.10.10 US C25C 7/08 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 C25D 17/12 (2006.01) 2022.06.02 C25C 1/00 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 C25C 5/02 (2006.01) PCT/CL2020/050115 2020.10.07 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2021/068090 ES 2021.04.15 (71)申请人 P ·D ·亚内斯

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