一种耐紫外线辐射的聚氨酯基辐射制冷薄膜的制备方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117587579 A (43)申请公布日 2024.02.23 (21)申请号 202311609487.9 D04H 1/4382 (2012.01) D04H 1/4358 (2012.01) (22)申请日 2023.11.28 (71)申请人 哈尔滨工业大学 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西 大直街92号 (72)发明人 潘磊　李欣　赵九蓬　丁振民　 徐洪波　李垚　 (74)专利代理机构 哈尔滨市松花江联合专利商 标代理有限公司 23213 专利代理师 高志光 (51)Int.Cl. D04H 1/728 (2012.01) D01F 8/16 (2006.01) D01F 8/10 (2006.01) D01F 1/10 (2006.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 一种耐紫外线辐射的聚氨酯基辐射制冷薄 膜的制备方法 (57)摘要 一种耐紫外线辐射的聚氨酯基辐射制冷薄 膜的制备方法，属于辐射制冷技术领域。本发明 是基于TPU的辐射冷却材料，旨在增强紫外线耐 久性，同时保持其卓越的冷却性能和结构完整 性。方法：一、制备壳层纺丝液；二、制备芯层纺丝 液；三、制备BST‑PVP@TP