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发明

一种可镭雕的光扩散阻燃PC材料及其制备方法

2023-05-09 10:34:47 发布于四川 23
  • 申请专利号：CN202111621440.5
  • 公开（公告）日：2023-09-08
  • 公开（公告）号：CN114395237A
  • 申请人：青岛国恩科技股份有限公司
摘要：本发明公开了一种可镭雕的光扩散PC材料，其特征在于，按质量份数计包括如下组分：聚碳酸酯：83‑94份；光折射干扰剂：1‑5份；自制阻燃母粒：2‑10份；增韧剂：0.2‑0.5份；热稳定剂：0.1‑0.5份；主抗氧剂：0.1‑0.3份；辅助抗氧剂：0.1‑0.3份；紫外线吸收剂：0.1‑0.4份；光扩散剂：0.5‑1份；镭雕助剂：0.1‑0.5份；抗滴落剂：0.05‑0.3份。本材料通过添加复配阻燃剂体系及和其它材料的合适配比，在较优的工艺条件下加工，得到一种阻燃效果优异且镭雕效果好的光扩散PC，其更加适合在灯具上使用。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114395237 A (43)申请公布日 2022.04.26 (21)申请号 202111621440.5 C08K 5/42 (2006.01) C08K 5/5419 (2006.01) (22)申请日 2021.12.23 C08K 5/3475 (2006.01) (71)申请人 青岛国恩科技股份有限公司 C08J 3/22 (2006.01) 地址 266000 山东省青岛市城阳区棘洪滩 街道青大工业园2号路 (72)发明人 李艳　王爱国　王龙　韩博　 白建雷　李庆文　张杰　黄绪德　 (74)专利代理机构 青岛申达知识产权代理有限 公司 37243 代理人 孙德治 (51)Int.Cl. C08L 69/00 (2006.01) C08L 83/04 (2006.01) C08L 23/26 (2006.01) C08L 27/18 (2006.01) 权利要求书2页 说明书14页 (54)发明名称 一种可镭雕的光扩散阻燃PC材料及其制备 方法 (57)摘要

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